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下图中A~J分别代表相关反应中的一种物质,已知A分解得到等物质的量的B、C、D,Mg可以与B发生置换反应生成MgO和另一种黑色非金属单质F,又知B、D、G、H、I常温下为气体,C常温下为液态化合物,图中有部分生成物未标出。请填写以下空白:
(1)A的化学式 ,D的电子式 。
(2)写出下列反应的化学方程式:
D+G→ H 。
F+J → B + C + I 。
(3)写出A溶液与足量NaOH溶液加热时反应的离子方程式 。
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硅单质及其化合物应用范围很广,请回答下列问题:
(1) 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 ;H2还原SiHCl3过程中若混02,可能引起的后果是 。
(2)下列有关说法正确的是 (填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃的成分有纯碱、石灰石和石英砂,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸溶液,振荡,则反应的离子方程式是 。
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取化学式为MZ的黑色粉末状化合物进行如下实验。将MZ和一定量碳粉充分混合,平铺在反应管a中,在b瓶中盛足量澄清石灰水,按图连接仪器。
实验开始时缓缓通入氮气,过一段时间后,加热反应管a,观察到管内固体变为光亮红色。同时,b瓶的溶液中出现白色浑浊。待反应完全后,停止加热,仍继续通氮气,直至反应管冷却。根据以上叙述回答问题:
(1)MZ的化学式是 ;
(2)反应管a中可能发生的反应的化学方程式表示为
。
(3)本实验的尾气是否需处理? (填“需要”或“不需要”),请说明理由 。
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(原创)(10分)表1是元素周期表的一部分(注意:以下各空所涉及的元素填元素符号,不能用字母代替) 表1
族 周期 | ⅠA | ⅡA | ⅢA | ⅣA | ⅤA | ⅥA | ⅦA | O族 |
1 | ||||||||
2 | G | H | D | |||||
3 | B | C | I | E | ||||
4 | F | A |
(1)A-H八种元素中(填化学式)
(a)原子半径最小的元素是 ,还原性最强的单质是
(b)最高价氧化物对应水化物酸性最强的是 。
(2)G元素的最高价氧化物的结构式 ;I元素的气态氢化物属于 (极性或非极性)分子;H元素的气态氢化物的空间构型是 .
(3) C元素的离子结构示意图 ,用电子式表示AD2的形成过程 .
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6.4 g铜与一定量的浓硝酸充分反应后,铜反应完全,硝酸的还原产物有NO、NO2,
反应后溶液中所含H+物质的量为n mol,此时溶液中所含NO3-的物质的量为
A.0.28 mol B.0.31 mol C.(n + 0.2) mol D.(n + 0.4) mol
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已知单位体积的稀溶液中,非挥发性溶质的分子或离子数越多,该溶液的沸点就越高。则下列溶液沸点最高的是
A.0.02 mol/L的NaCl溶液 B. 0.01 mol/L的CaCl2溶液
C.0.01 mol/L的蔗糖溶液 D. 0.02 mol/L的CH3COOH溶液
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下列分子结构式中的大黑点表示原子序数小于10的元素的“原子实”(指原子除去最外层电子的剩余部分),小黑点表示没形成共价键的最外层电子,短线表示共价键。其中分子结构式与化学式关系错误的是
A. (NH3) B.(HCN)
C. (C3H4O) D. (BF3)
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下列化学反应的离子方程式正确的是
A.在稀氨水中通入过量CO2: NH3?H2O+CO2=NH+HCO
B.少量SO2通入Ca(ClO)2溶液中:SO2+H2O+Ca2++2ClO-=CaSO3+2HClO
C.实验室制氨气: NH + OH- = H2O + NH3
D.氢氧化钙溶液与等物质的量的稀硫酸混合:Ca2++OH-+H++SO=CaSO4+H2O
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用右图装置制取、提纯并收集表中的四种气体(a、b、c表示相应仪器中加入的试剂),其中可行的是
气体 | a | b | c | |
A | NO2 | 浓硝酸 | 铜片 | NaOH溶液 |
B | SO2 | 浓硫酸 | Cu | 浓硫酸 |
C | NH3 | 浓氨水 | 生石灰 | 碱石灰 |
D | CO2 | 稀硫酸 | Na2CO3 | 浓硫酸 |
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下列现象或事实可用同一原理解释的是
A.浓硫酸和浓盐酸长期暴露在空气中浓度降低
B.氯水和活性炭使红墨水褪色
C.漂白粉和水玻璃长期暴露在空气中变质
D.工业生产的浓盐酸和浓硝酸都显黄色
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